Đề tài này tập trung vào việc nghiên cứu, thiết kế và chế tạo một thiết bị đánh bóng từ tính sử dụng ách từ động, có khả năng tích hợp vào các hệ thống gia công hiện có nhằm nâng cao hiệu quả và chất lượng xử lý bề mặt. Mục tiêu chính là phát triển một giải pháp tối ưu và linh hoạt trong gia công tinh, đặc biệt ở cấp độ nguyên tử, để cải thiện độ bóng và giảm thiểu khuyết tật bề mặt của các chi tiết sau gia công thô. Khác với các phương pháp đánh bóng truyền thống vốn tiêu tốn nhiều thời gian, phụ thuộc lớn vào tay nghề người vận hành và khó tự động hóa, công nghệ đánh bóng từ tính sử dụng ách từ động kết hợp với điều khiển chính xác từ trường mang lại khả năng loại bỏ vật liệu với độ phân giải cao, đồng đều, kiểm soát tốt lực tác động, giảm biến dạng nhiệt và đạt được độ nhám siêu thấp. Bên cạnh đó, quá trình đánh bóng sẽ được phân tích và đánh giá ở cấp độ nguyên tử nhằm làm rõ cơ chế tương tác giữa hạt mài và vật liệu nền, từ đó tối ưu hoá điều kiện công nghệ để ứng dụng thực tiễn trong sản xuất.

Từ khóa:

đánh bóng từ tính, Lammps, Động lực học phân tử, Mô phỏng, đánh bóng nano

Abstract:

This project focuses on the research, design and fabrication of a magnetic polishing device using a magnetic yoke, which can be integrated into existing machining systems to improve the efficiency and quality of surface treatment. The main objective is to develop an optimal and flexible solution in finishing, especially at the atomic level, to improve the gloss and minimize surface defects of rough-machined parts. Unlike traditional polishing methods that are time-consuming, highly dependent on operator skills and difficult to automate, magnetic polishing technology using a magnetic yoke combined with precise control of the magnetic field provides the ability to remove material with high resolution, uniformity, good control of impact force, reduce thermal deformation and achieve ultra-low roughness. In addition, the polishing process will be analyzed and evaluated at the atomic level to clarify the interaction mechanism between abrasive particles and the substrate material, thereby optimizing technological conditions for practical application in production.

Key word:

Lammps, Molecular Dynamics, simulations, nano-polishing