Trong quá trình phát triển các thiết bị nano thế hệ tiếp theo, tốc độ cao hơn và hoạt động với công suất thấp hơn là mục tiêu của trò chơi. Việc ngày càng phụ thuộc vào máy tính di động, điện thoại di động và các thiết bị điện tử khác đòi hỏi tốc độ và công suất cao hơn. Khi quá trình san phẳng hóa học cơ học (CMP) dần dần được coi là công nghệ tiên tiến hơn là nghệ thuật đen tối, thì nó đang nổi lên như một công nghệ để đạt được các thiết bị hiệu suất cao hơn.

Abstract:

In the development of next-generation nanoscale devices, higher speed and lower power operation is the name of the game. Increasing reliance on mobile computers, mobile phone, and other electronic devices demands a greater degree of speed and power. As chemical mechanical planarization (CMP) progressively becomes perceived less as black art and more as a cutting-edge technology, it is emerging as the technology for achieving higher performance devices.

Ngôn ngữ:	Eng
Tác giả:	Ungyu Paik, Jea-Gun Park
Thông tin nhan đề:	Nanoparticle Engineering for Chemical - Mechanical Planarization: Fabrication of Next-Generation Nanodevices
Nhà xuất bản:	Taylor & Francis Group
Loại hình:	Tài nguyên giáo dục mở / Bộ sưu tập: Kỹ thuật hóa học
Bản quyền:	https://creativecommons.org/share-your-work/use-remix/cc-licenses/#by-nc-nd
Nguồn gốc:	https://www.taylorfrancis.com/books/oa-mono/10.1201/9780429291890/nanoparticle-engineering-chemical-mechanical-planarization-ungyu-paik-jea-gun-park?context=ubx&refId=2ffd1856-1506-4695-a04b-f507a82c15d2
Mô tả vật lý:	224p.
Năm xuất bản:	2020