Mục tiêu chính của cuốn sách này là cung cấp cho những người thành thạo một bản đánh giá toàn diện về những cải tiến toàn cầu mới nhất trong các bằng chứng, quan điểm và triển vọng mang tính giả thuyết và thực nghiệm của một số thiết bị đáng đưa tin và nhiều ứng dụng công nghệ của chúng cho nhiều kỹ thuật chế tạo thạch bản. Chủ đề hiện tại của cuốn sách này đi đôi với các phương pháp và phương tiện lắng đọng thạch bản, các thông số tối ưu hóa và các ứng dụng công nghệ rộng rãi của chúng. Cuốn sách này bao gồm sáu chương bao gồm sự hiểu biết sâu sắc về thạch bản, chế tạo và tái tạo các cấu trúc nanopyramid tuần hoàn bằng thạch bản in UV nano cho các ứng dụng pin mặt trời, thạch bản in nano diện tích lớn và các ứng dụng, tạo mẫu micro/nano trên polyme, thạch bản ngâm OPC liên quan đến các ứng dụng phát quang mới, thạch bản Talbot không sắc (ATL) và thạch bản giao thoa tia X mềm. Các chương riêng lẻ cung cấp cơ sở cho nhiều độc giả từ các lĩnh vực khác nhau, sinh viên và nhà nghiên cứu, những người có thể đang nghiên cứu có liên quan đến các chủ đề được thảo luận trong cuốn sách này và tìm thấy các nguyên tắc cơ bản cũng như nâng cao của các chủ đề được chỉ định liên quan đến các hiện tượng này được giải thích rõ ràng. Cuốn sách gồm sáu chương được biên soạn bởi các chuyên gia trong nhiều lĩnh vực khác nhau về chế tạo và công nghệ in thạch bản từ hơn 15 viện nghiên cứu trên toàn cầu.

Abstract:

The main objective of this book is to give proficient people a comprehensive review of up-to-date global improvements in hypothetical and experimental evidences, perspectives and prospects of some newsworthy instrumentation and its numerous technological applications for a wide range of lithographic fabrication techniques. The present theme of this book is concomitant with the lithographic ways and means of deposition, optimization parameters and their wide technological applications. This book consists of six chapters comprehending with eminence of lithography, fabrication and reproduction of periodic nanopyramid structures using UV nanoimprint lithography for solar cell applications, large-area nanoimprint lithography and applications, micro-/nanopatterning on polymers, OPC under immersion lithography associated to novel luminescence applications, achromatic Talbot lithography (ATL) and the soft X-ray interference lithography. Individual chapters provide a base for a wide range of readers from different fiels, students and researchers, who may be doing research pertinent to the topics discussed in this book and find basic as well as advanced principles of designated subjects related to these phenomena explained plainly. The book contains six chapters by experts in different fields of lithographic fabrication and technology from over 15 research institutes across the globe.

Ngôn ngữ:	En
Tác giả:	Jagannathan Thirumalai
Thông tin nhan đề:	Micro Nanolithography: A Heuristic Aspect on the Enduring Technology
Nhà xuất bản:	IntechOpen
Loại hình:	Tài nguyên giáo dục mở / Bộ sưu tập: Hóa
Bản quyền:	https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/
Nguồn gốc:	https://directory.doabooks.org/handle/20.500.12854/130344
Mô tả vật lý:	134p.
Năm xuất bản:	2018