Vào đầu thế kỷ XX, Tiến sĩ Irving Langmuir đã tích cực nghiên cứu về phóng điện plasma và khoa học bề mặt. Kể từ đó, đã có những tiến bộ lớn trong việc phát triển các ứng dụng của phóng điện và plasma như đèn phóng điện, ống điện và hàn hồ quang. Liên quan đến các nghiên cứu về vật lý không gian và phản ứng tổng hợp hạt nhân có kiểm soát, vật lý plasma đã có những tiến bộ vượt bậc. Hóa học plasma cũng đã tiến triển cùng với các ứng dụng của nó trong công nghệ chế tạo LSI, lắng đọng hơi hóa học của màng chức năng và sản xuất vật liệu nano. Vào thế kỷ XXI, chắc chắn sẽ có sự phát triển hơn nữa các ứng dụng của vật lý plasma và hóa học plasma. Trong cuốn sách này, 18 chương về những tiến bộ gần đây trong khoa học và công nghệ plasma đã được các chuyên gia tích cực trên toàn thế giới viết.

Abstract:

In the early twentieth century, Dr. Irving Langmuir actively studied plasma discharge and surface science. Since then, great progress has been made in the development of applications of discharges and plasmas such as discharge lamps, electric tubes, and arc welding. In relation to studies on space physics and controlled nuclear fusion, plasma physics has greatly advanced. Plasma chemistry has also progressed along with its applications in LSI fabrication technology, the chemical vapor deposition of functional films, and the production of nanomaterials. In the twenty-first century, the further development of applications of plasma physics and plasma chemistry is certainly expected. In this book, 18 chapters on the recent progress in plasma science and technology have been written by active specialists worldwide.

Ngôn ngữ:	eng
Tác giả:	Mieno, Tetsu (editor)
Thông tin nhan đề:	Plasma Science and Technology: Progress in Physical States and Chemical Reactions
Nhà xuất bản:	IntechOpen
Loại hình:	Tài nguyên giáo dục mở / Bộ sưu tập: Cơ khí - Chế tạo máy
Bản quyền:	https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/
Nguồn gốc:	https://directory.doabooks.org/handle/20.500.12854/129445
Mô tả vật lý:	548p.
Năm xuất bản:	2019